? Make it small ? (? Faire petit ?) est le mantra à la base des grands développements de la microélectronique, des transistors aux processeurs. à tel point que la compétitivité des entreprises de haute technologie repose sur leur capacité à créer de manière fiable des composants à l'échelle du nanomètre, ou si vous préférez un milliardième de mètre.

La photolithographie est l'une des techniques clés utilisées pour créer les motifs de circuit sur les puces à semi-conducteurs. Cela permet aux ingénieurs d'emballer et de reproduire des circuits complexes contenant des millions de composants dans un tout petit espace utilisant la lumière.

Cette technique est si avancée que seules quelques sociétés d'Europe et du Japon peuvent produire la machine capable de réaliser un tel exploit. Mais récemment, la Chine est entrée dans la partie.

L'Institut d'optique et d'électronique de l'Académie chinoise des sciences a annoncé le 29 novembre avoir développé son propre appareil de photolithographie, surmontant ainsi l'un des principaux obstacles techniques au développement des puces, des nanocomposants et des instruments d'optique en Chine.

La nouvelle machine, que les scientifiques ont commencé à construire en 2012, peut graver des motifs de circuits inférieurs à 22 nanomètres en utilisant la lumière ultraviolette. Combiné à d'autres techniques, elle pourra être utilisée à l'avenir pour créer des puces d'environ 10 nanomètres. ? La machine est d'une grande utilité pour la fabrication de puces générales et d'autres matériaux nécessitant une microtechnique, y compris certains circuits intégrés ?, a déclaré Hu Song, concepteur en chef adjoint du projet, ajoutant qu'elle peut également être utilisée pour fabriquer de petits composants pour des applications telles que les capteurs, les détecteurs et les biopuces.

Elle est déjà utilisée par plusieurs institutions, dont l'Université du Sichuan et l'Université des sciences et technologies électroniques de Chine.

Dans les années à venir, l'équipe concentrera ses efforts sur l'augmentation de la productivité de la machine à l'échelle industrielle. Selon M. Hu, le secteur de la microtechnique entre la Chine et les pays développés compte encore d'importantes lacunes, mais la Chine rattrape rapidement son retard.

Les entreprises ma?trisant la photolithographie auront un avantage décisif dans la production de microélectronique, a-t-il ajouté. Le géant de la fabrication de puces Intel a annoncé qu'il pourrait produire plus de 5 milliards de transistors à l'échelle nanométrique par seconde, selon la fiche de renseignements de son entreprise. Le plus grand fournisseur de photolithographie au monde est une société néerlandaise appelée ASML Holding. Parmi les principaux concurrents d'ASML figurent des grands noms comme Canon et Nikon.

Depuis la fin des années 1990, la Chine n'est plus en mesure d'importer des technologies de photolithographie de pointe et d'autres équipements de fabrication de puces en provenance de pays développés. Cette situation est aggravée par le fait qu'ASML possède d'importants brevets couvrant la lithographie par empreinte, qui comprend la photolithographie, a précisé M. Hu.

En conséquence, les entreprises chinoises doivent recourir à des techniques relativement obsolètes et inefficaces pour produire de la microélectronique. Leurs produits sont donc souvent inférieurs à ceux des pays développés. Pour surmonter ce monopole, l'Institut d'optique et d'électronique a découvert un nouveau phénomène de physique en 2003 et s'est fondé sur cette propriété pour la nouvelle machine. Selon M. Hu, la Chine possède maintenant 47 brevets nationaux et 4 brevets internationaux concernant la nouvelle technologie. ? Nous ne craignons plus un blocus technique étranger, car nous avons la propriété intellectuelle de la nouvelle technique ?, a-t-il souligné.